簡単かつ安全に利用できリサイクルも可能な不均一系ラジカル発生剤の開発 —誰でも溶液を流すだけで高分子を合成できる時代はもう目の前に— 研究成果

　東京大学大学院総合文化研究科の本多智助教らは、架橋高分子型ラジカル発生剤およびその架橋高分子でシリカ微粒子を被覆した微粒子型ラジカル発生剤を開発しました。これらの不均一系ラジカル発生剤から生成した一次ラジカルは、水素ドナー存在下で水素移動反応を起こし、水素ドナー由来の二次ラジカルを生成します。この二次ラジカルによってラジカル反応／重合の開始反応を引き起こすことができます。この方法論によれば、従来法よりも精製操作が少なく簡単かつ安全にラジカル反応をおこなうことができるだけでなく、一度反応に使われた不均一系ラジカル発生剤を簡便な操作で再活性化できるメリットもあります。さらに、微粒子型ラジカル発生剤を液体クロマトグラフィ用充填剤として用いると、所定の溶液を順番に流すだけで簡単に高分子を合成することもできました。
　この研究成果は、化学的方法論の開発における高いインパクトの研究のみを掲載する目的で出版社Wileyが新たに創刊した論文誌『Chemistry-Methods』誌に掲載されました。